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半導體

ASML二季度財報發布,DUV光刻機同樣供不應求

光刻是半導體制造中最復雜關鍵的工藝步驟。作為主要工藝設備,光刻機亦是半導體制造中技術含量最高的設備之一,業界對其動態十分關注。近日,全球最大的光刻機廠商ASML發布第二季度財報,在訂單量創歷史新高下,取得凈利潤同比增長36%,環比增長103%的良好業績。在全球高通脹的背影下,市場對經濟衰退的擔憂及其可能對需求產生的影響存在明顯擔憂。然而半導體設備特別是光刻機行業表現出較強的抗波動性,盡管下游消費市場部分需求出現放緩,但對光刻機的需求依然十分強勁。ASML預計2022全年出貨量將創歷史新高。
2022全年中國大陸市場銷售增長10%
近日,ASML發布二季度財報,實現銷售收入54.3億歐元,同比增長35%,環比增長54%;其中設備收入41.4億歐元,同比增長40%,環比增長80%。在中國大陸,第二季度ASML設備收入約4億歐元,預計2022全年中國大陸同比增長10%左右。
從整體市場需求變化來看,當前下游消費市場部分需求放緩,但整個市場卻復雜得多,半導體設備市場需求依然強勁。日前,SEMI在Semicon上預測,晶圓廠設備支出預計將在2022年增長15.4%,至1010億美元,預計2023年將進一步增長3.2%,至1043億美元。
在此情況下,市場對光刻機的需求至2023年也不會減弱。ASML在財報中表示,汽車市場和工業市場的增長非常強勁,物聯網進一步推動了對更成熟技術節點的需求,推動了對傳感器、電源IC和執行器的需求,高性能計算應用程序的需求也有非常強勁的增長;隨著代工競爭的加劇,有許多正在計劃或已經在建設的晶圓廠。半導體終端市場的增長和光刻強度的提高正在推動對公司設備的需求。
明年EUV產能將超60臺
在所有光刻機中EUV無疑最受關注。財報顯示,ASML第二季度極紫外線光刻機(EUV)共售出12臺,環比增長9臺,收入19.9億歐元,環比增長232%。ASML的EUV訂單量積壓已超過100臺,同時預計明年的EUV產能將超過60臺。
EUV,尤其是下一代高數值孔徑 (NA) EUV,是推動半導體微縮的關鍵技術,可在未來幾年實現1nm及以下的制造工藝。采用EUV可以減少工藝時間以及多重圖形化的支出成本。有消息顯示,ASML開發的新一代高數值孔徑 (0.33 NA)EUV正在用于邏輯芯片和DRAM的生產。
盡管EUV受到關注,但是深紫外線光刻機(DUV),依然是當前半導體制造的主力設備。ASML亦表示,低估了市場對DUV的需求,無論是28/45/65/90nm和0.18um這些節點均對DUV有著應用。終端市場推動了成熟制程的產品越來越多,比如汽車、IoT、傳感器、功率、MCU等,成熟制程市場空間不斷增長。ASML財報顯示,第二季度DUV售出79臺環比增長20臺,收入21.5億歐元,環比增長26.5%。
根據使用的光源與工藝創新,光刻機大致經歷了五代產品的更疊,每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點,包括g-line與i-line接觸接近式光刻機,KrF掃描投影式光刻機、ArF步進式掃描投影光刻機以及極紫外EUV光刻機。

責任編輯:陳炳欣


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